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National

1. DIN NA 062-08-17AA „Nanotechnologien“

Zur Spiegelung der Aktivitäten von ISO/TC 229 und CEN TC 352 „Nanotechnologies“ richtete das DIN das o. g. Spiegelgremium ein, dessen Gründungssitzung im Januar 2006 in Berlin stattfand.
Das Gremium arbeitet bei 25 internationalen Normungsentwürfen mit. Eigene Vorschläge werden direkt in die entsprechende ISO-Arbeitsgruppe eingebracht. Es werden Experten für die einzelnen Normungsvorhaben benannt und Delegationen für die Teilnahme an ISO-Sitzungen zusammengestellt, die die Interessen der deutschen Wirtschaft dort vertreten.

Auf einem offenen DIN-Workshop am 19. April 2010 wurde darüber beraten, ob ein vollwertiges DIN-Spiegelgremium zu ISO/TC 201 Surface Chemical Analysis (SIMS, AES, XPS; SPM; XRR, TXRF, CLSM/LSCM) eingerichtet werden soll. Bislang beobachtet Deutschland die Normungsarbeiten in TC 201 zu analytischen Techniken und SPM lediglich und hat dort kein Stimmrecht. Die Gründungssitzung ist für Mitte bis Ende Juni 2010 in Berlin geplant.

Die deutsche Industrie und entsprechende Forschungsinstitute sind aufgerufen, durch Mitarbeit im DIN-Gremium national und international ihre Interessen zu vertreten.

Kontakt:
Dr.-Ing. M. Schmitt
(DIN)
Telefon: 030 2601 2783,
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oder
Obmann Dr. G. Reiners (BAM)
Telefon: 030 8104 1820,
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2. DKE K141 "Nanotechnologie"

Im DKE wurde im Dezember 2005 das o. g. Gremium gegründet. Es ist zuständig für die Erarbeitung von Querschnittsnormen auf dem Gebiet der Nanotechnologie im Bereich der Elektrotechnik, Elektronik, Opto-Elektronik und Informationstechnologie einschließlich der Aspekte der Nachhaltigkeit. Es führt die Spiegelung entsprechender IEC-Aktivitäten des IEC TC113 durch und pflegt die Zusammenarbeit mit DIN NA 062-08-17 AA, dem Spiegelgremium zu ISO TC 229. DKE/K141 führt das Sekretariat von IEC TC 113 und hat die Convener-Funktion für die IEC TC 113 - WG3 übernommen. Z.Zt. wird als erstes Normungsprojekt der Vorschlag aus Deutschland mit dem Titel „Guideline for Carbon Nanotubes Specifications for Electrotechnical Applications“ bearbeitet

Kontakt:
DKE Deutsche Komission, Elektrotechnik Elektronik Informationstechnik im DIN und VDE, Referat K 141,
Thomas Adler, Stresemannallee 15, 60596 Frankfurt am Main,
Tel.: 069 6308-221, Telefax: 069 6308-9221
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3. VDI/VDE-GMA Fachausschüsse

In der VDI/VDE Gesellschaft für Mess- und Automatisierungstechnik beschäftigt sich der Fachausschuss 3.40 „Metrologie in der Mikro- und Nanotechnik“ mit dem generellen Erfahrungsaustausch physikalischer Grundlagen von Messverfahren der Mikro- und Nanometrologie, der Nutzung von Normalen und Richtlinien, insbesondere der Übertragbarkeit in den Mikro- und Nanometermaßstab. Ergebnisse werden der Öffentlichkeit in Form von Workshops und Tagungen vorgestellt.
Weitere VDI/VDE GMA Fachausschüsse behandeln unterschiedliche Aspekte der Nanometrologie:

- GMA 3.41: Oberflächenmesstechnik im Mikro- und Nanometerbereich
- GMA 3.42: Nicht-geometrische Messgrößen
- GMA 3.44: Dimensionelle Messgrößen

In VDI/VDE GMA FA 3.41 werden die beiden Richtlinienreihen
- Optische Messtechnik an Mikrotopografien (VDI/VDE 2655)
- Bestimmung geometrischer Messgrößen mit Rastersondenmikroskopen (VDI/VDE 2656)
bearbeitet.

Die Richtlinie „VDI/VDE 2655 Blatt 1.1: Kalibrieren von Interferenzmikroskopen und Tiefeneinstellnormalen für die Rauheitsmessung“ ist als Weißdruck verfügbar (www.beuth.de). Weitere Blätter dieser Richtlinienreihe sind in Arbeit:

Blatt 1.2 Optische Messtechnik an Mikrotopographien - Kalibrieren von konfokalen Mikroskopen und Tiefeneinstellnormalen

Blatt 1.3 Optische Messtechnik an Mikrotopographien - Kalibrieren von Interferenzmikroskopen für die Konturmessung

Blatt 2.1 Optische Messtechnik an Mikrotopographien – Verfahren der Rauheitsmessung mit Interferenzmikroskopen

Mit der Grundkalibrierung von Rasterkraftmikroskopen befasst sich die Richtlinie „VDI/VDE 2656 Blatt 1: Bestimmung geometrischer Messgrößen mit Rastersondenmikroskopen – Kalibrierung von Messsystemen“. Diese ist zweisprachig (deutsch/englisch) als weltweit erste Richtlinie zur umfassenden dimensionellen Charakterisierung und Kalibrierung von Rastersondenmikroskopen im Juni 2008 im Weißdruck erschienen und über den Beuth-Verlag erhältlich. Sie ist außerdem die Grundlage für einen Normenentwurf im ISO TC 201 SC 9 (s.o.).

Weitere Blätter der VDI/VDE 2656 zur Anwendung der Rastersondenmikroskopie in der Rauheits- und Formmessung befinden sind in 3.41 in Vorbereitung. In allen Ausschüssen des VDI/VDE GMA sind interessierte Mitstreiter willkommen.

Kontakt:
über die Geschäftsstelle des VDI/VDE GMA 3.40 :
Dipl.-Ing. J. Berthold
Telefon: +49 (0)211 6214-678/-228
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oder über die
Obleute der drei Fachausschüsse:
- 3.41: Dr. L. Koenders (PTB), Telefon: 0531 592 5100,
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- 3.42: Dr. G. Reiners (BAM), Telefon: 030 8104 1820,
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- 3.44: Prof. Dr.-Ing. habil. Eberhard Manske (TU-Ilmenau), Telefon: 03677 69 1250,
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