Mitglieder Log In

   
   
A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z 0-9

Universität Bielefeld - Fakultät für Physik

Telefon: 0521 106 5469
Fax: 0521 106 6001
Kontaktperson: Prof. Dr. Heinzmann, U.
Kontakt: uheinzm@physik.uni-bielefeld.de
Postfach 100131
33501
Bielefeld
Beschreibung:

Wir sind in der Lage, unser Knowhow und apparative Möglichkeiten zu folgenden Techniken einzubringen:

  • Polieren von Oberflächen mit lonenstrahlen zur Herstellung ultraglatter Oberflächen (Rauhigkeit 0,1 nm rms)
  • Aufbringen von ultradünnen (> 1 nm Schichtdicke) Schichten zur Glättung rauher Oberflächen
  • Aufbringen von x-y-graded Multischichten zur Asphärisierung von Reflexionsoptiken (sphärische Spiegel und Gitter) und zum lokalen Ausgleich von Figurenfehlem (Korrekturbereich nm bis µm mit 0,1 nm Genauigkeit)
  • Beschichtung von ultrapräzisen Oberflächen mit Multischichten für die Anwendung als Reflexionsoptiken im weichen EUV- und Röntgenbereich (40 bis 1000 eV bzw. 1 bis 30 nm): Spiegel, Gitter, Etalons, Polarisatoren, Viertelwellenplättchen; planar, sphärisch, beliebig asphärisch; auch lateral strukturiert und auch in Transmission; Größen von 3 bis 150 mm Durchmesser; Beschichtung durch UHV-e-beam Verdampfen und MOCVD.
  • Analyse- und Mikroskopieverfahren (in situ und ex situ)
    • Transmissionselektronenmikroskopie TEM einschließlich Querschnittpräparation
    • Rasterelektronenmikroskopie SEM
    • UHV-Tunnelmikroskopie STM
    • Luft und UHV Kraftmikroskopie AFM
    • ortsaufgelöste EUV-Reflektometrie
    • Röntgenbeugung und -reflektometrie
    • Ionenrückstreuung RBS zur Multischichtanalyse
    • Raster-Auger
    • Sputter-Auger
    • Photoelektronenmikroskopie XPS-PEEM
    • Computersimulation der Beschichtungs- und Analyseverfahren

In Zusammenarbeit mit der Firma Carl Zeiss, Oberkochen, der PTB Berlin u.a. und mit finanzieller Unterstützung des BMBF u.a. konnten in der 20-köpfigen Nanotechnologie-Arbeitsgruppe der Universität Bielefeld in den vergangenen 10 Jahren das Knowhow und die apparativen Einrichtungen zu o.a. Techniken entwickelt werden. Insbesondere wurden erste ultrapräzise ML-Beschichtungen von Asphären- und Gittersubstraten für EUV vorgenommen.

Located in: Mitglieder
Powered by SobiPro

Suche

   

Kooperationen

   

Veranstaltungen

   

RSS abonnieren