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Universität Erlangen-Nürnberg - Lehrstuhl Für Optik

Telefon: 09131-85-2 8395
Fax: 09131-13-508
Kontaktperson: apl. Prof. Dr. rer. nat. Lindlein, Norbert
Kontakt: norbert.lindlein@physik.uni-erlangen.de
Staudtstr. 7/B2
91058
Erlangen
Beschreibung:

Beschreibung der Kompetenzen des Lehrstuhls für Optik der Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg, Arbeitsgruppe apl. Prof. Dr. rer. nat. Norbert Lindlein

Der Lehrstuhl für Optik der Universität Erlangen-Nürnberg beschäftigt sich mit allen Aspekten der modernen Optik von der Quantenoptik bis zur technisch anwendbaren optischen Messtechnik. Speziell die Arbeitsgruppe ODEM (Leitung: apl. Prof. Dr. N. Lindlein, frühere Leitung bis 2003 Prof. Dr. J. Schwider) hat drei Arbeitsgebiete: Optik-Design/Simulation, Mikrostrukturierung und interferometrische Messtechnik.

Optik-Design/Simulation
Das Programm RAYTRACE/WAVESIM dient als Plattform zur Entwicklung neuartiger Simulationsmethoden für optische Systeme, wobei nicht nur strahlenoptische Verfahren wie ray tracing, sondern auch wellenoptische Verfahren (skalar und rigoros) eingesetzt werden. Damit ist eine umfassende Simulation und teils auch Optimierung verschiedenster optischer Systeme unter Berücksichtigung einer Vielzahl von physikalischen Effekten (z.B. Aberrationen, Beugungseffekte, Polarisationseffekte, etc.) möglich.

Mikrostrukturierung
Im Bereich der Mikrostrukturierung stehen sowohl eine direktschreibende Laserlithographie-Anlage (DWL 425 der Firma Heidelberg Instruments) als auch ein Elektronenstrahl-Lithographie-Gerät (Raith 150two) zur Verfügung. Außerdem gibt es mehrere reaktive Ionenätzanlagen, Anlagen zur nasschemischen Prozessierung und begleitende Mess- und Monitoringtechniken für die mikrostrukturierten Elemente. Auf diese Weise lassen sich z.B. diffraktive optische Elemente (DOEs) für verschiedenste Anwendungen herstellen, wobei speziell zum Design von DOEs auch umfangreiche Software zur Verfügung steht.

Interferometrische Messtechnik
Ein weiteres Arbeitsgebiet ist die interferometrische Messtechnik, wobei speziell asphärische Oberflächen im Auflicht oder asphärische Elemente im Durchlicht interferometrisch mit einem Nulltest-Verfahren vermessen werden. Als Nullelemente werden meist DOEs verwendet, die mit den vorhandenen Lithographie-Anlagen selbst gefertigt werden. Die Kalibrierung der Messungen erfolgt mit Absolut-Testverfahren, bei denen das Prüf-Objekt bzw. das Mess-System selbst in mehreren Stellungen vermessen wird und durch Kombination mehrerer Messungen auf den Absolut-Fehler des Prüf-Objekts geschlossen werden kann.
Das Design der DOEs, die Simulation von Dejustagen der Elemente im Mess-Aufbau und die Simulation des gesamten Mess-Systems geschieht mit Hilfe des Programms RAYTRACE, was die enge Verknüpfung der drei Arbeitsgebiete zeigt.


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